对于磁控溅射设备MSP-8in 推荐实用程序
该装置是使用磁控管靶的金属镀膜装置。用于8英寸晶圆等大面积样品，以及多个样品的同时处理。
惭厂笔-8颈苍的靶电极沿靶金属表面形成多个同心磁场，通过捕获该磁场中的电子，提高溅射靶金属的等离子体离子密度。设定磁场的强度，使得沉积的金属膜的厚度从靶的中心到外周是均匀的。
该产物是一套包括装置本身、一种目标金属（请指类型）、旋转泵和 SUS 软管。
该设备需要安装和操作说明。
MSP-8in [t=0.1mm]的
金靶材
MSP-8in 的
Pt 靶材
[t=0.1mm]
MSP-8in [t=0.5mm]的
银靶
如果您需要其他目标类型，请联系我们。
*该设备只能与贵金属目标一起使用。
*Target 需要重新装修工作。
对于任何其他维护/维修查询，请通过服务查询与我们联系。
由于本装置是大容量、大面积的装置，建议使用氩气。
础耻：金
观察面积：数千至10,000倍
础耻-笔诲：金钯
观察面积：10,000至50,000倍
适合低倍率观察，对比度良好。
笔迟：铂
观察面积：10,000～50,000倍
笔迟-笔诲：铂钯
观察面积：30,000～50,000倍
粒径细小，常用于高倍率观察。
