SELN - 001B：半导体精密制造的水平 “稳压器"
在半导体设备制造的精密世界里，毫厘之差都可能导致产物质量的天壤之别。二轴精密水平仪 SELN - 001B，作为行业内的测量与校准利器，正以其性能和无比的优势，为半导体制造公司带来未有的革新。
精准测量，奠定工艺基石
光刻机作为半导体制造的核心设备，对工作台和光路系统的水平精度要求近乎苛刻。SELN - 001B 凭借其高达 ±0.001deg 的惊人角度精度，能精确校准光刻机工作台，确保晶圆与光刻镜头的距离分毫不差，光刻图案精度得以保障。在光路系统中，对反射镜和透镜等光学元件的水平调整同样得心应手，让光刻光线精准投射，分辨率与均匀性双双提升，为制造高性能芯片筑牢根基。
刻蚀机的反应腔室与晶圆承载台水平度，直接关乎刻蚀效果。SELN - 001B 可快速探测反应腔室的倾斜角度，助力技术人员迅速调整至理想水平，实现刻蚀气体均匀分布，刻蚀均匀性和精度大幅提高。对于晶圆承载台，其双轴同时调整功能高效便捷，有效避免刻蚀偏差，产物良品率显著跃升。
镀膜设备的真空腔室与蒸发源等部件的水平状态，决定了镀膜质量。SELN - 001B 轻松应对真空腔室安装调平，将安装时间大幅缩短，同时保障腔室水平度，使镀膜均匀性更上一层楼。精确调整蒸发源水平角度，让镀膜均匀性偏差控制在极小范围，满足半导体制造对薄膜质量的严苛需求。
创新设计，突破应用难题
面对半导体设备内部复杂紧凑的结构，许多测量工具往往望而却步。SELN - 001B 却具优势，它能够轻松完成上下间隔狭窄部位的水平观测，无论是光刻机内部的精密部件，还是刻蚀机紧凑的反应腔室，都能精准测量，突破传统测量局限。
其操作极为直观，技术人员可如同观看气泡式水平仪一般，依据监视器画面进行调整，即便是初学者，借助设备的合格角度范围设置功能，也能迅速上手，轻松实现水平调整。这一特性不仅统一了操作人员的标准，减少人为误差，还大大缩短了调整作业工时，显着提升工作效率。
实际案例，见证成效
在某半导体制造公司，引进新刻蚀机时，SELN - 001B 大显身手。快速校准反应腔室水平，使产物良品率从 85% 飙升至 92%。调整晶圆承载台水平后，刻蚀不均匀问题得到有效解决，生产成本大幅降低。
另一家半导体工厂在镀膜设备维护与升级中，借助 SELN - 001B，将真空腔室安装时间从两天缩短至一天，镀膜均匀性显著改善。蒸发源升级改造后，利用该设备精确调整水平角度，镀膜均匀性偏差从 ±10% 降至 ±5% 以内。
专注先进制程芯片制造的公司，依靠 SELN - 001B 定期检测光刻机工作台与光路系统，确保光刻图案套刻精度达到纳米级，为生产先进制程芯片提供坚实保障。
二轴精密水平仪 SELN - 001B，以精准的测量、创新的设计和实际应用效果，成为半导体设备制造公司提升产物质量、提高生产效率、降低成本的选择。选择 SELN - 001B，就是选择半导体制造的未来。
